GX-300A氮氫空技術保障措施：
1 組合式純化工藝，分級處理。
2 凈化器采用特殊結構和裝料方法，流速設計合理，氣流分布均勻。
3 凈化爐采用特殊設計的加熱構造，加熱均勻、穩定。
4 GX-300A氮氫空采用管件，閥門，避免管道和閥門影響氣體質量。
5 采用的電器元件和控制儀表，保證溫度穩定，減少溫度和影響。
6 凈化器的活化程序，嚴格按照活化程序執行，根據現場實際情況適當調整。
7 對用戶的操作員進行設備操作培訓，了解設備工作原理，掌握設備操作方法，熟悉設備的開車、停車、停電、停水處理方法。
8 GX-300A氮氫空對用戶設備建立檔案，及時提醒用戶對設備進行例行檢查和維護。是設備處在*工作狀態。
本裝置可與區熔硅單晶爐配套使用，也可用于激光器、濺射、真空濺射鍍膜機。半導體生產、光譜儀，氣相色譜儀、特殊燈泡、稀有金屬加工等需要用高純氬氣的生產技術領域。